Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse

Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse

Hélène de Baynast / Oct 23, 2019

Elaboration de couches de tin par d p t chimique en phase gazeuse Ce travail porte sur l laboration et la caract risation des films de nitrure de titane d pos s sur silicium par CVD partir des pr curseurs t trachlorure de titane TiCl ammoniac NH et hydrog ne H

  • Title: Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse
  • Author: Hélène de Baynast
  • ISBN: 3838181018
  • Page: 326
  • Format: broch
  • Ce travail porte sur l laboration et la caract risation des films de nitrure de titane d pos s sur silicium par CVD partir des pr curseurs t trachlorure de titane TiCl4 , ammoniac NH3 et hydrog ne H2 Les films sont r alis s dans un r acteur basse pression chauffage rapide RTLPCVD Deux proc d s de d p t ont t propos s un monocycle et un multicycle, ainsi que deux groupes de param tres le groupe 1 avec une haute temp rature de d p t 800 C et une phase gazeuse riche en ammoniac et le groupe 2 avec une faible temp rature de d p t 500 C et une phase gazeuse pauvre en ammoniac L tude des coefficients de sursaturation et des nergies libres de surface a permis de calculer les rayons des germes critiques Des hypoth ses sur les modes de croissance ont t mises la germination des couches labor es avec les param tres du groupe 1 se ferait selon le mode de germination 2D 3D alors que la germination des groupes labor es avec les param tres du groupe 2 se ferait selon le mode de croissance 3D Les d p ts ont t caract ris s par diffraction X, RBS, XPS, mesure de r sistivit , spectrocolorim trie, rugosit de surface et comportement tribologique.

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      326 Hélène de Baynast
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      Posted by:Hélène de Baynast
      Published :2019-07-11T14:25:36+00:00

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      • Hélène de Baynast

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